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ASML公司日前发布2018年Q3季度财报,当季营收27.8亿欧元,净利润6.8亿欧元,出货了5台EUV光刻机,全年预计出货18台,明年将增长到30台,而且明年下半年会推出新一代的NXE:3400C型光刻机,生产能力从现在的每小时125晶圆提升到155片晶圆以上,意味着产能提升24%。
国内迎来晶圆代工厂建厂落地潮,预计2019年~2020年将会是新厂设备大规模导入时间点,国产设备将迎来更大的机遇。在国内集成电路产业火热发展的大环境下,国产设备厂商如中微半导体、北方华创、晶盛机电等均有了长足发展。学习集成电路知识,了解更多集成电路资讯,认准华强旗舰电子圈!
台积电近日宣布,已经开始了7nm+ EUV工艺的大规模量产,这是该公司乃至整个半导体产业首个商用EUV极紫外光刻技术的工艺。作为EUV设备唯一提供商,市场预估荷兰ASML公司籍此EUV设备年增长率将超过66%。这个目标是否能实现?EUV工艺在发展过程中面临哪些挑战?产业化进程中需要突破哪些瓶颈?
近日,智光电气在投资者互动平台上透露,其参股的广州粤芯半导体采购了荷兰ASML(艾司摩尔)光刻机,并且于今年3月中旬搬进了粤芯半导体主厂房。
随着5G的发展,以及近期的贸易摩擦,使我们逐渐意识到微电子集成电路技术对世界的各种科技电子产品越来越应用广泛了,一个国家的发展越来越离不开高端芯片了。
半导体芯片生产可以说是制造业的皇冠,而光刻机就是皇冠上的明珠,EUV 光刻机则是明珠之光,其设计之复杂远超一般工业设备。
本文详细介绍了光刻机的相关知识,具体包括光刻机是干什么用的、光刻机的分类、光刻机性能指标、掩膜对准光刻机光刻流程、光刻机曝光系统、光刻机对准系统等方面的知识。
光刻机是集成电路最具关键性的基础装备之一,全球只有3-4家厂商可以生产制造,中高端产品几乎被国际厂商垄断,要想解决我国集成电路产业发展中的“卡脖子”问题,推动光刻机的国产化势在必行,需要调动国家资本、产业资本和社会资本的共同参与。
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